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l 사건 개요
원고의 발명을 특허출원(이하 ‘이 사건 출원발명’)하였고, 특허청 심사관은 이 사건 출원발명은 진보성이 부정된다는 이유로 특허 거절결정을 하였고, 원고는 청구항에 구성을 부가하여 한정하는 등 청구항 번호를 1 내지 17항으로 정리하는 보정서를 제출하였으나 최초 거절이유와 동일한 사유로 심사관에 의해 특허거절되었다. 원고는 특허심판원에 위 거절결정의 취소를 구하는 심판을 청구하였으나 심판원은 “이 사건 제14항 발명은 통상의 기술자가 비교대상발명 1, 2에 의하여 쉽게 발명할 수 있으므로 그 진보성이 부정되고, 특허출원에서 청구범위과 둘 이상의 청구항으로 이루어진 경우에 어느 하나의 청구항이라도 거절이유가 있으면 그 출원은 일체로서 거절되어야 한다”는 이유로 원고의 위 심판청구를 기각하는 심결을 하였다. 이에 불복한 원고가 그 심결의 취소를 구하는 소를 제기한 사안이다.
l 판시 요지
(1) 이 사건 제1항 출원발명과 선행발명 1의 해당 구성요소(구성요소 3)로서 포텐셜 제어 회로는 전극을 포커스 링보다 낮은 포텐셜로 유지하는 반면, 선행발명 1은 하부 전극과 포커스 링에 상이한 전압을 인가하는 구성만 개시할 뿐 하부 전극을 포커스 링보다 낮은 포텐셜로 유지하는지 여부에 관하여는 명시하지 않았다는 점에서 차이가 있다(차이점 2). 이 사건 출원발명의 명세서 기재에 따르면 ‘전극을 포커스 링보다 낮은 포텐셜로 유지하도록 구성되는 포텐셜 제어 회로’의 기술적 특징을 가질 수 있는데 선행발명 1의 명세서 기재에 따르면 선행발명 1에도 포텐셜 제어 회로가 전극을 포커스 링보다 낮은 포텐셜로 유지하는 구성과 실질적으로 동일한 기술적 특징이 내포 또는 암시되어 있다고 볼 수 있고, 나아가 선행발명 1의 명세서 기재에 따르면 통상의 기술자가 선행발명 1의 분배기를 이온 시스 단차의 값에 따라 구성요소 3의 포텐셜 제어 회로와 마찬가지로 포커스 링 전극이 하부 전극보다 더 높은 전력 값이 인가되도록 구성할 수도 있지만 이와 반대로 더 낮은 전력 값이 인가되도록 쉽게 변경할 수 있다고 볼 수 있다.
(2) 다음으로 양 발명의 구성요소 5에 관하여 살펴보건대 구성요소 5의 포텐셜 제어 회로는 위 각 요소 및 그 접속 관계에 관하여 한정하는 반면, 선행발명 1은 분배기의 세부 구성과 이들 사이의 결합관계에 관하여 구체적으로 개시하고 있지 않다는 점에서 양 구성은 차이가 있다(차이점 4). 이 사건 출원발명과 선행발명 1은 실질적으로 동일한 구성을 개시하고 있으므로 통상의 기술자는 선행발명 1의 가변 콘덴서로부터 탭-오프 커패시터(304)로 구성된 포텐셜 제어 회로를 쉽게 도출할 수 있다고 할 것이고, 또한 선행발명 2의 명세서 기재에 따르면 선행발명 2에는 구성요소 5의 세부 회로 중 라즈마 챔버에 제공되는 포워드 파워(forward power)가 플라즈마 챔버로부터 반사된 파워에 매치되는 것을 보장하기 위해 바이어스 전극및/또는 포커스 링 전극에 제공되는 전압, 전류 및/또는 신호의 위상을 조정하기 위한 매칭 인덕터와 매칭 커패시터와 같은 기능을 하는 구성에 해당하는 내용이 개시되어 있는 한편, 선행발명 1 및 2에는 구성요소 5의 세부회로 중 바이어스 파워 소스로부터 제공되는 파워 신호에서의 변화(variation)를 조절하기(condition) 위한 파워 커패시터와 같은 기능을 하는 구성에 관하여 개시되어 있지 않으나 제1 가변 커패시터의 기능 및 위와 같은 접속 관계로부터 통상의 기술자라면 제1 가변 커패시터는 플라즈마 프로세싱 챔버의 파워 소스로부터 반사되는 신호에 포함된 노이즈를 제거하여 보다 안정적으로 전력을 공급하는 구성임을 알 수 있을 것이다. 따라서, 통상의 기술자가 선행발명 1로부터 또는 선행발명 1에 선행발명 2를 결합하여 포텐셜 제어 회로를 구성하는 세부 요소들 사이의 접속 관계도 쉽게 도출할 수 있다고 판단되고, 나아가 제1항 출원발명의 구성요소 5의 포텐셜 제어 회로를 구성하는 세부 요소들 사이의 접속 관계를 공지된 기술로부터 선택하여 구성하는 것이 통상의 기술자에게 각별한 기술적 곤란성이 있다고 볼 수 없다. 이와 더불어, 구성요소 5의 파워 소스와 평행하게 병렬로 접속된 제1 가변 커패시터의 결합관계에 있어서도 파워 소스 및 반사되는 신호에 포함된 노이즈를 제거하여 회로단에 보다 안정적으로 전력을 공급하기 위한 것이므로, 가변 커패시터를 파워 소스와 평행하게 병렬 형태로 구성하는 것은 통상의 기술자에게 기술상식에 해당한다.
(3) 한편, 원고는 통상의 기술자에 의한 선행발명 1과 선행발명 2의 결합이 쉽지 않고, 이 사건 제1항 출원발명의 구성요소 3은 선행발명 1의 분배기와 기술적 사상이 다르며, 통상의 기술자가 선행발명 1로부터 용이하게 도출할 수도 없다는 취지로 주장하나, 이 사건 출원발명, 선행발명 1, 2의 해결과제를 그 배경기술 등을 포함한 발명 전체에 개시된 내용으로 비교하여 판단할 때, 앞서 설명한 바와 같이 서로 공통되므로, 비록 선행발명 1은 포커스 링의 소모 두께를 정확히 모니터하는 것을, 선행발명 2는 탄도 전자 빔속의 불균일성 문제를 해소하는 것을 해결과제로 포함하고 있다고 하더라도, 원고의 주장과 같이 선행발명 1, 2는 이 사건 출원발명의 해결과제를 개시 또는 인식하지 못하고 있는 것이거나, 해결과제가 서로 전혀 상이하여 통상의 기술자가 이들을 결합하는 것이 쉽지 않다고 보기 어렵고, 또한 선행발명 1의 배경기술을 함께 포함한 발명의 전체에 개시된 내용에 따르면 플라즈마 처리장치에서 플라즈마 분포가 불균일하게 형성되는 문제점이 개시되어 있고, 플라즈마 시스로 인해 발생으로 인하여 플라즈마 분포 밀도가 기판의 중심 부분에서보다 기판의 측면 단부(에지) 부분에서 더 낮게 형성되기 때문에 포커스 링 전극에 전력을 인가하여 챔버 내에서 플라즈마 분포를 균일하게 제어해야 한다는 기술적 특징은 배경기술을 포함한 선행발명 1의 전체에 이미 개시되어 있다. 그러므로 원고의 주장과 같이, 선행발명 1은 포커스 링이 일정 이상 소모된 경우 포커스 링을 하부 전극보다 높은 포텐셜로 유지함으로써 기판 식각 품질을 향상하는 기술만을 개시하고 있다고 볼 수 없다. 결과적으로 이 사건 제1항 출원발명은 통상의 기술자가 선행발명 1에 의하여 또는 선행발명 1, 2에 의하여 쉽게 발명할 수 있으므로 진보성이 부정된다. 나아가, 특허출원에 있어 청구범위가 여러 개의 청구항으로 되어 있는 경우 어느 하나의 청구항이라도 거절이유가 있는 때에는 그 출원은 전부가 거절되어야 한다. 이 사건 제1항 출원발명의 진보성이 부정되어 특허를 받을 수 없는 이상 이 사건 출원발명의 나머지 청구항에 관하여 더 나아가 살펴볼 필요 없이 이 사건 출원발명은 특허를 받을 수 없다.
키워드: 특허, 거절결정, 진보성, 플라즈마 밀도를 제어하는 시스템 및 방법
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